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半导体装备等离子刻蚀设备模型

2022年03月24日

半导体装备等离子刻蚀设备模型mye中国模型网

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等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中,一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中,在外部能量作用下(如射频、微波等)形成等离子体,干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域,凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新,微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、先进封装、功率半导体等领域可提供高端装备及工艺解决方案。mye中国模型网

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形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力,刻蚀设备已进入主流芯片代工厂,其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的优选。mye中国模型网

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