浙江大学光刻浸液系统模型
浙江大学机械工程学院启尔团队，坚持十五年基础研究和技术攻关，突破光刻机浸液系统设计制造关键技术，为高端光刻机国产化研制奠定了基础。
浙江大学光刻浸液系统模型
浙江大学光刻浸液系统模型
光刻机是芯片制造的核心设备之一，作为光、机、电一体化的超大型复杂系统，面临着很多“卡脖子”技术难题。
-
留言与评论（共有 0 条评论）
浙江大学光刻浸液系统模型
浙江大学机械工程学院启尔团队，坚持十五年基础研究和技术攻关，突破光刻机浸液系统设计制造关键技术，为高端光刻机国产化研制奠定了基础。
浙江大学光刻浸液系统模型
浙江大学光刻浸液系统模型
光刻机是芯片制造的核心设备之一，作为光、机、电一体化的超大型复杂系统，面临着很多“卡脖子”技术难题。
 |
| 留言与评论（共有 0 条评论） |
