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浙江大学光刻浸液系统模型

2022年05月20日

浙江大学光刻浸液系统模型oJV中国模型网

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浙江大学机械工程学院启尔团队,坚持十五年基础研究和技术攻关,突破光刻机浸液系统设计制造关键技术,为高端光刻机国产化研制奠定了基础。oJV中国模型网

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光刻机是芯片制造的核心设备之一,作为光、机、电一体化的超大型复杂系统,面临着很多“卡脖子”技术难题。oJV中国模型网

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